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濕法刻蝕處理系統

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型號︰POLOS Advanced系
品牌︰POLOS
原產地︰德國
單價︰CNY ¥ 350000 / 台
最少訂量︰1 台

 共有 20 相關信息  
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產品描述

一、POLOS Advanced系列 濕法刻蝕處理系統 產品介紹:

我們的POLOS Advanced系列濕法處理系統涵蓋了廣氾的工藝應用。與我們的超聲MegPie和特殊的Lift-Off液結合使用,可進一步用於光阻剝離和金屬剝離。此外,也可與去離子水(DiO3)中的臭氧一起使用,為Piranha ( H2SO4  H2O2)清洗提供有效的替代。

武汉月忆_匀胶显影工艺.png

Coating - Etching- Developing - Cleaning

1、Coating

(1)POLOS Advanced系列濕法處理系統適用於所有典型的旋塗工藝,該系統在特殊應用可選用高耐化學性 PTFE (TFM™)作為旋塗腔體。旋塗是製造納米聚合物薄膜(PDMS、嵌段聚合體等)技術之一。可編程旋轉速度內的加速度是很重要的,因為它控制了從一個給定的溶液中可以獲得的厚度。旋塗可以相對容易地從1000轉以上的轉速產生均勻的薄膜。

(2)POLOS Advanced系列濕法處理系統的優勢在於其所採用的馬達為高性能無刷電機,12,000轉/分鐘的旋轉速度和高達30,000轉/秒*的旋轉加速度,使其能夠快速生產從几納米到幾微米厚的均勻薄膜。

(3)POLOS Advanced系列濕法處理系統控制電機模式的旋轉(順時針/逆時針),結合可選的多達6個自動分配器,能夠實現多層薄膜的均勻沉積和光阻顯影。這些特點支持用全自動和高度可重複的程序配方來快速優化工藝。

2、Etching

晶圓減薄(背面研磨)的旋塗蝕刻作為晶圓減薄的后處理方法被用於集成電路和MEMS的製造,以便於:

(1)實現理想的器件厚度(IC、MEMS);

(2)確保基於器件功能的特定厚度(MEMS);

(3)減少垂直器件(功率器件)的基材串聯電阻;

 

德國Fraunhofer ENAS的K.Gottfried博士在POLOS Advanced濕法處理系統上用HNOHF / CH3COOH進行旋塗蝕刻的研究証明,濕法蝕刻,作為旋塗蝕刻的執行,可以去除10微米的硅。此外,它幾乎*消除了研磨引起的基材損傷的所有痕跡。該平台提供了一個相對簡單且價格合理的工藝設置。該工藝比CMP快得多,它提供了一個較高的蝕刻率,並且能夠直接處理背面研磨的晶圓,而不需要額外的清洗。

 

該平台的標準特點:image.png

①適用於100毫米、150毫米和200毫米晶圓的工藝;

②適用於多種化學品;

③KOH

HNO/ HF / CH3COOH (HNA)

⑤晶圓片連續旋轉;

⑥Puddle模式

⑦分注位置可固定

⑧在特定距離(晶圓直徑)上的振盪運轉模式

⑨噴霧式點膠  

⑩沖洗式點膠

資料來源:Fraunhofer ENAS-Dr. Knut Gottfried, Precise Bulk Silicon Wet Etching 2013

(Fraunhofer ENAS-Knut Gottfried博士,精確批量硅濕法蝕刻 2013年)

 

3、Post-CMP Cleaning

在CMP之後,表面可能會被漿料的殘留物高度污染。在用含有50nm膠體二氧化硅顆粒的漿料拋光的3''硅片上進行的測試表明,使用POLOS Advanced與ZTop MegPie兆聲波換能器在1MHz左右工作,結合稀釋的NH4OH,可以產生很好的清潔效果。

高度稀釋(2%)的NH4OH用於增強顆粒和表面之間的靜電排斥力(控制Zeta電位),以避免重新沉積和重新附着。

image.png

 

我們的測試案例將POLOS ZTop MegPie整合在POLOS 200 Advanced 濕法處理系統內。這個MegPie套件允許你在150毫米和200毫米的有效尺寸之間進行選擇,並可選擇藍寶石或不鏽鋼ZTop MegPie。

POLOS ZTop MegPie控制集成到POLOS Advanced的軟件中,允許伺服控制MegPie的定位和控制前進功率。它還監測反射功率,並控制溫度警報。與基體的距離由一個超聲波傳感器監測。

湿法刻蚀处理系统

 

二、POLOS Advanced系列 濕法刻蝕處理系統 技術參數:

 

匀胶显影机

型號

POLOS 200 Advanced

POLOS 300 Advanced

POLOS 450 Advanced

基片範圍

φ260mm圓片

6ʺx6ʺ方片

φ360mm圓片

8ʺx8ʺ方片

φ460mm圓片

350mmx350mm方片

程序段數

無限制*

無限制*

無限制*

操作步數

無限制*

無限制*

無限制*

旋轉速度

0-12,000 rpm

0-12,000 rpm

0-1500rpm

旋轉精度

±0.1 rpm

±0.1 rpm

±0.1 rpm

旋轉方向

順時針、逆時針、puddle

順時針、逆時針、puddle

順時針、逆時針、puddle

旋轉加速度

≤30,000 rpm/sec

≤30,000 rpm/sec

≤1500rpm時取決于負載

腔體材質

NPPPTFE

NPPPTFE

NPPPTFE

腔體直徑

302 mm

402 mm

502 mm

外形尺寸

380 x 307 x 559mm

430 x 310 x 650mm

795 x 638 x 922mm

觸屏控制

全彩觸屏控制

全彩觸屏控制

全彩觸屏控制

設備重量

20Kg

32Kg

75Kg

電源參數

220V,50/60 Hz

220V,50/60 Hz

220V,50/60 Hz

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

三、可選配項

匀胶显影机

 

付款方式︰TT
產品圖片






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